Positivphotoresistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP1644426
Art B1
17. Juni 2009
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1644426
- Aktenzeichen
- EP04747823
- Anmeldetag
- 15. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 17. Juni 2009
- Erteilung
- 17. Juni 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08G8/00C08G14/00G03F7/023
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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