Verfahren zum Entfernen von Fotoresist von Substraten
EP1644776
Art A2
12. April 2006
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1644776
- Aktenzeichen
- EP04776596
- Anmeldetag
- 15. Juni 2004
- Veröffentlichung
- 12. April 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/00G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
Morf, Jan Stefan
München, Deutschland
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