Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1647861
Art A1
19. April 2006
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1647861
- Aktenzeichen
- EP05077329
- Anmeldetag
- 12. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 19. April 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00G01B9/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Fachgebiete
Vertreten von
Mertens, Hans Victor
Amsterdam, Niederlande
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