Verfahren zum Korrigieren Kritischer Abmessungsschwankungen in Fotomasken

EP1649323 Art B1 18. November 2015

Anmelder: Carl Zeiss SMS Ltd, Pixer Technology Ltd, Uclt Ltd. 🇮🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1649323
Aktenzeichen
EP04744993
Anmeldetag
18. Juli 2004
Veröffentlichung
18. November 2015
Erteilung
18. November 2015
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/38G03F1/54G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Carl Zeiss SMS Ltd
Pixer Technology Ltd
Uclt Ltd.
Land
🇮🇱 Israel

Fachgebiete

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen