Lithographischer Projektionsapparat, Gasspülverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und Spülgasversorgungssystem
EP1649325
Art B1
11. Januar 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Entegris, Inc., Mycrolis Corporation 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1649325
- Aktenzeichen
- EP04774827
- Anmeldetag
- 20. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 11. Januar 2012
- Erteilung
- 11. Januar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Entegris, Inc.
Mycrolis Corporation - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
899 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Corcoran, Gregory Martin Mason
Veldhoven, Niederlande
102
Patente gesamt
7
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Winckels, Johannes Hubertus F
NoneDen Haag