Linsenabbildungssystem mit zwei positiven Linsen
EP1650591
Art B1
10. September 2008
Anmelder: Enplas Corporation, ENPLAS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1650591
- Aktenzeichen
- EP05256458
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 10. September 2008
- Erteilung
- 10. September 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B9/06G02B13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Enplas Corporation
ENPLAS CORPORATION - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Enplas
Enplas ist ein japanischer Hersteller optischer und feinmechanischer Kunststoffkomponenten, unter anderem für Displays, Steckverbinder und Halbleitertests. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Mess- und Beleuchtungstechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.
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Vertreten von
Murnane, Graham John
München, Deutschland
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