Fotomaskenrohling, Fotomaske und ihre Herstellungsmethode
EP1650600
Art B1
25. November 2009
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Toppan Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1650600
- Aktenzeichen
- EP05022691
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 25. November 2009
- Erteilung
- 25. November 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/08G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Toppan Printing Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
1.905 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Altenburg, Udo
München, Deutschland
1.040
Patente gesamt
33
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte