Verfahren zur Herstellung eines Epitaktischen Siliciumwafers
EP1650788
Art B1
14. Juli 2010
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1650788
- Aktenzeichen
- EP04729522
- Anmeldetag
- 26. April 2004
- Veröffentlichung
- 14. Juli 2010
- Erteilung
- 14. Juli 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205H01L21/31H01L21/68C23C16/24C23C16/458
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
1.022 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Jones, Helen M.M
London, Großbritannien
946
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
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Schwerpunkte