Verfahren zur Herstellung von Mustern mit Geneigten Flanken mittels Fotolithographie
EP1652009
Art B1
7. März 2007
Anmelder: Mimotec S.A., COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 🇨🇭
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1652009
- Aktenzeichen
- EP04786375
- Anmeldetag
- 5. August 2004
- Veröffentlichung
- 7. März 2007
- Erteilung
- 7. März 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Mimotec S.A.
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE - Land
- 🇨🇭 Schweiz
🇫🇷
CEA (Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives)
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
5.929 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Poulin, Gérard
Paris, Frankreich
1.981
Patente gesamt
33
Fachgebiete
19
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leman Consulting S.A
Leman Consulting S.A · Nyon