Fluoriertes Monomer mit zyklischer Struktur, Herstellungsverfahren, Polymer, Photoresistzusammensetzung, Musterbildungsverfahren
EP1652844
Art B1
1. Juli 2009
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1652844
- Aktenzeichen
- EP05256687
- Anmeldetag
- 28. Oktober 2005
- Veröffentlichung
- 1. Juli 2009
- Erteilung
- 1. Juli 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07D307/20C07D319/06C07D319/08C07D309/10C08F16/00G03F7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Watson, Robert James
London, Großbritannien
751
Patente gesamt
32
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte