Gasversorgungsanordnung, insbesondere für einen Cvd-Prozessreaktor zum Aufwachsen einer Epitaxieschicht
EP1654754
Art B1
21. Februar 2007
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1654754
- Aktenzeichen
- EP04766355
- Anmeldetag
- 28. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2007
- Erteilung
- 21. Februar 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/205C23C16/455C30B25/14C30B25/02F17C13/04B01F3/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
4.937 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kindermann, Peter
Baldham, Deutschland
362
Patente gesamt
27
Fachgebiete
14
Anmelder-Länder
Schwerpunkte