Plasmasteuerverfahren und Plasmasteuervorrichtung
EP1659611
Art A1
24. Mai 2006
Anmelder: Fuji Electric Co., Ltd., Fuji Electric Systems Co., Ltd., FUJI ELECTRIC HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1659611
- Aktenzeichen
- EP05024505
- Anmeldetag
- 10. November 2005
- Veröffentlichung
- 24. Mai 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Fuji Electric Co., Ltd.
Fuji Electric Systems Co., Ltd.
FUJI ELECTRIC HOLDINGS CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Electric
Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hoffmann, Eckart, Dipl.-Ing
Gräfelfing, Deutschland
933
Patente gesamt
27
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