Verfahren und Einrichtung zur Lithographie durch Extrem-Ultraviolettstrahlung
EP1660946
Art B1
2. Mai 2007
Anmelder: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1660946
- Aktenzeichen
- EP04787282
- Anmeldetag
- 1. September 2004
- Veröffentlichung
- 2. Mai 2007
- Erteilung
- 2. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
CEA (Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives)
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hassine, Albert
Paris, Frankreich
77
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18
Fachgebiete
9
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Schwerpunkte