Material zur Bildung eines Resist-Schutzfilms für einen Immersionsbelichtungsprozess, aus Solchem Material Hergestellter Resistschutzfilm und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur unter Verwendung eines Solchen Resistschutzfilms
EP1662323
Art A1
31. Mai 2006
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1662323
- Aktenzeichen
- EP04772165
- Anmeldetag
- 25. August 2004
- Veröffentlichung
- 31. Mai 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Vertreten von
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Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München