Substrattisch, Verfahren zur Messung der Position eines Substrats und lithographisches Gerät
EP1662327
Art A3
13. September 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1662327
- Aktenzeichen
- EP05110761
- Anmeldetag
- 15. November 2005
- Veröffentlichung
- 13. September 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Weenink, Willem
Veldhoven, Niederlande
78
Patente gesamt
4
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag