Positiv-Photoresistzusammensetzung und Bildung einer Resiststruktur
EP1664928
Art B1
29. Februar 2012
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1664928
- Aktenzeichen
- EP04772191
- Anmeldetag
- 19. August 2004
- Veröffentlichung
- 29. Februar 2012
- Erteilung
- 29. Februar 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/023
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Hart-Davis, Jason
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