Sputtertarget und Verfahren zur Endbearbeitung der Oberfläche eines Derartigen Targets
EP1666630
Art A1
7. Juni 2006
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation, Nippon Mining & Metals Co., Ltd., Nikko Materials Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1666630
- Aktenzeichen
- EP04772044
- Anmeldetag
- 24. August 2004
- Veröffentlichung
- 7. Juni 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
Nippon Mining & Metals Co., Ltd.
Nikko Materials Company, Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
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