Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1666973
Art B1
28. April 2010
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1666973
- Aktenzeichen
- EP05257182
- Anmeldetag
- 22. November 2005
- Veröffentlichung
- 28. April 2010
- Erteilung
- 28. April 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Corcoran, Gregory Martin Mason
Veldhoven, Niederlande
102
Patente gesamt
7
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon