Gasbehandlungseinrichtung und Wärme-Readiting-Verfahren

EP1667217 Art A1 7. Juni 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1667217
Aktenzeichen: EP04772422
Anmeldetag: 30. August 2004
Veröffentlichung: 7. Juni 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/31C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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