Phasenänderungsfilm für einen Nichtflüchtigen Halbleiterspeicher und Sputter-Target zur Bildung eines Solchen Phasenänderungsfilms

EP1667230 Art A1 7. Juni 2006

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1667230
Aktenzeichen: EP04787719
Anmeldetag: 8. September 2004
Veröffentlichung: 7. Juni 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L27/10H01L45/00C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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