Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie
EP1668419
Art B1
28. Juli 2010
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1668419
- Aktenzeichen
- EP03785715
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2003
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2010
- Erteilung
- 28. Juli 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B7/18G02B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Lorenz, Werner
Heidenheim, Deutschland
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