System und Verfahren zur Verwendung einer Simulation aus Ersten Prinzipien zur Analyse eines Prozesses, der durch ein Halbleiterbearbeitungswerkzeug Durchgeführt Wird
EP1668558
Art A2
14. Juni 2006
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1668558
- Aktenzeichen
- EP04788578
- Anmeldetag
- 22. September 2004
- Veröffentlichung
- 14. Juni 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G06F19/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München