Ablagerung von Siliziumhaltigen Filmen aus Hexachlordisilan

EP1668668 Art A2 14. Juni 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1668668
Aktenzeichen: EP04788551
Anmeldetag: 20. September 2004
Veröffentlichung: 14. Juni 2006
Rechtsraum: EP
IPC: B05D5/12C23C16/00C23C16/22C23C16/34H01L21/336H01L21/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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