Kondensatorkonstruktionen, Rauhe Siliziumhaltige Oberflächen und Verfahren zur Herstellung von Rauhen Siliziumhaltigen Oberflächen

EP1668678 Art B1 23. März 2011

Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1668678
Aktenzeichen
EP04782390
Anmeldetag
26. August 2004
Veröffentlichung
23. März 2011
Erteilung
23. März 2011
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02H01L21/8242
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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