Prozess zur Herstellung von Leitfähigen Substrat-Durchkontaktierungen

EP1668689 Art B1 20. März 2019

Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1668689
Aktenzeichen
EP04784701
Anmeldetag
21. September 2004
Veröffentlichung
20. März 2019
Erteilung
20. März 2019
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/48H01L21/768H01L23/48H01L23/498
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Kanzlei
Carpmaels & Ransford LLP

Carpmaels & Ransford gehört zu den ältesten IP-Kanzleien überhaupt und geht auf eine 1776 gegründete Patentagentur zurück. Von London, München und Dublin aus führt sie als eine der wenigen Häuser Parallelverfahren vor EPA, UPC und britischen Gerichten aus einem Team.

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