Substratpositionierung in der Immersionslithographie
EP1669808
Art A3
6. Juni 2007
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1669808
- Aktenzeichen
- EP05257411
- Anmeldetag
- 1. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 6. Juni 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00H01L21/68G01B11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Raukema, Age
NoneVeldhoven
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon