Photolackbeschichtungsverfahren für die Mikrolithographie
EP1671186
Art A2
21. Juni 2006
Anmelder: NORTHROP GRUMMAN CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1671186
- Aktenzeichen
- EP04757204
- Anmeldetag
- 23. Juli 2004
- Veröffentlichung
- 21. Juni 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NORTHROP GRUMMAN CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Northrop Grumman
US-amerikanischer Rüstungs- und Luftfahrtkonzern mit Sitz in Virginia, tätig in den Bereichen Verteidigungselektronik, Flugzeugbau, Raumfahrt und Cybersicherheit.
1.414 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Skone James, Robert Edmund
London, Großbritannien
2.888
Patente gesamt
32
Fachgebiete
29
Anmelder-Länder
Schwerpunkte