Filmbildungsvorrichtung und Filmbildungsverfahren

EP1672093 Art B1 10. Juli 2013

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, SAMUKAWA, Seiji 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1672093
Aktenzeichen: EP04773039
Anmeldetag: 14. September 2004
Veröffentlichung: 10. Juli 2013
Erteilung: 10. Juli 2013
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/455H01L21/31

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
SAMUKAWA, Seiji
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von