Lithografische Vorrichtung, Baugruppe und Verfahren zur Messung eines Parameters eines Projektionssystems
EP1672430
Art B1
25. Februar 2009
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1672430
- Aktenzeichen
- EP05111692
- Anmeldetag
- 5. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2009
- Erteilung
- 25. Februar 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
van Westenbrugge, Andries
NoneDen Haag