Leuchtentladungsröhre, Herstellungsverfahren für eine Leuchtentladungsröhre und Schutzfilm-Bildungseinrichtung
EP1675159
Art A1
28. Juni 2006
Anmelder: Shinoda Plasma Corporation, FUJITSU LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1675159
- Aktenzeichen
- EP03751471
- Anmeldetag
- 10. Oktober 2003
- Veröffentlichung
- 28. Juni 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J61/35H01J65/04// H01J61/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shinoda Plasma Corporation
FUJITSU LIMITED - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujitsu
Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.
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Fachgebiete
Vertreten von
Gibbs, Christopher Stephen
London, Großbritannien
145
Patente gesamt
29
Fachgebiete
8
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Schwerpunkte