Reparieren von Geschädigten Low-K Dielektrischen Materialen mit Silylierungsmittel
EP1676303
Art A2
5. Juli 2006
Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1676303
- Aktenzeichen
- EP04817126
- Anmeldetag
- 24. September 2004
- Veröffentlichung
- 5. Juli 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Honeywell International Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
13.051 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Clarke, Lionel Paul
London, Großbritannien
643
Patente gesamt
31
Fachgebiete
21
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Hucker, Charlotte Jane
NoneLondon