Selektives Schicht-Millimeterwellen-Oberflächenhaltsystem und -Verfahren

EP1676463 Art B1 20. Februar 2008

Anmelder: RAYTHEON COMPANY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1676463
Aktenzeichen
EP04795701
Anmeldetag
19. Oktober 2004
Veröffentlichung
20. Februar 2008
Erteilung
20. Februar 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H05B6/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
RAYTHEON COMPANY
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Raytheon Company

US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.

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