CVD Verfahren und CVD Kammer zum Abscheiden von Titan-Siliciumnitrid für Phasenänderungsspeicher
EP1676934
Art A1
5. Juli 2006
Anmelder: STMicroelectronics Srl, STMicroelectronics S.r.l. 🇮🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1676934
- Aktenzeichen
- EP04107072
- Anmeldetag
- 30. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 5. Juli 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/34H01L45/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- STMicroelectronics Srl
STMicroelectronics S.r.l. - Land
- 🇮🇹 Italien
🇮🇹
STMicroelectronics Italy
Italienische Konzerngesellschaft des schweizerisch-französischen Halbleiterherstellers STMicroelectronics. Entwickelt und fertigt Halbleiterkomponenten für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.
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Vertreten von
Jorio, Paolo
Torino, Italien
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