Polarisierte Strahlung in einem lithografischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1677152
Art B1
19. August 2009
Anmelder: ASML Netherlands BV, Carl Zeiss SMT AG 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1677152
- Aktenzeichen
- EP05257710
- Anmeldetag
- 15. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 19. August 2009
- Erteilung
- 19. August 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands BV
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Roberts, Peter David
NoneManchester