System und Verfahren zur Fehlermarkierung auf einem Substrat bei maskenlosen Anwendungen
EP1677155
Art B1
4. Juli 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1677155
- Aktenzeichen
- EP05257757
- Anmeldetag
- 16. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2007
- Erteilung
- 4. Juli 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte