Verfahrung zur Messung von Substratinformationen und Substrat für Gebrauch in einem lithografischen Apparat
EP1677158
Art A3
26. Juli 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1677158
- Aktenzeichen
- EP05258013
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2005
- Veröffentlichung
- 26. Juli 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00G03F7/20H01L21/30H01L23/544
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
119
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon