Vorrichtung zur Kompensation transienter thermischer Belastung eines Photolithographiespiegels
EP1679537
Art B1
10. Dezember 2008
Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1679537
- Aktenzeichen
- EP06004031
- Anmeldetag
- 16. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 10. Dezember 2008
- Erteilung
- 10. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B7/195G03F7/20G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Holding N.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
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Weitere Vertreter
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München