Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür

EP1679550 Art A1 12. Juli 2006

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1679550
Aktenzeichen
EP06004926
Anmeldetag
5. November 2001
Veröffentlichung
12. Juli 2006
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G02B17/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen