Verfahren zur Selektiven Ablagerung von Stark Dotiertem Epitaxial-Sige

EP1680808 Art A1 19. Juli 2006

Anmelder: Applied Materials, Inc., APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1680808
Aktenzeichen
EP04784661
Anmeldetag
21. September 2004
Veröffentlichung
19. Juli 2006
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/20H01L21/205C30B25/08C30B29/52
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Applied Materials, Inc.
APPLIED MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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