Vorrichtung und Verfahren für einen Nrom-Speicher mit Vertikalem Aufgeteiltem Gate

EP1685593 Art A1 2. August 2006

Anmelder: Micron Technology, Inc., MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1685593
Aktenzeichen
EP04811107
Anmeldetag
16. November 2004
Veröffentlichung
2. August 2006
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/8247H01L21/8246H01L27/115H01L29/792H01L29/423
Offizieller Volltext

Abstract

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Firmen
Micron Technology, Inc.
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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