Plasmaätzverfahren für eine Chromschicht zur Herstellung einer Fotomaske
EP1686421
Art B1
13. Juni 2012
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1686421
- Aktenzeichen
- EP06250436
- Anmeldetag
- 26. Januar 2006
- Veröffentlichung
- 13. Juni 2012
- Erteilung
- 13. Juni 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.783 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Setna, Rohan P
London, Großbritannien
754
Patente gesamt
34
Fachgebiete
23
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Bayliss, Geoffrey Cyril
NoneLondon