Verfahren zur Einstellung der Aberrationen eines Apparats für die Teilchenstrahllithographie, Apparat für die Teilchenstrahllithographie, sowie Verfahren zur Herstellung von Produkten mit diesem Apparat

EP1686610 Art B1 23. März 2011

Anmelder: CANON KABUSHIKI KAISHA, Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1686610
Aktenzeichen
EP06001640
Anmeldetag
26. Januar 2006
Veröffentlichung
23. März 2011
Erteilung
23. März 2011
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/317H01J37/304
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
CANON KABUSHIKI KAISHA
Hitachi High-Technologies Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

10.659 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen