Verfahren zur Bildung einer Niederspannungs-Gateoxidschicht und Tunneloxidschicht in einer Eeprom-Zelle
EP1687844
Art A2
9. August 2006
Anmelder: Atmel Corporation, ATMEL CORPORATION, Amtel Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1687844
- Aktenzeichen
- EP04817831
- Anmeldetag
- 16. November 2004
- Veröffentlichung
- 9. August 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/115H01L21/8247H01L27/105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Atmel Corporation
ATMEL CORPORATION
Amtel Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Atmel
Atmel war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller für Mikrocontroller und wurde 2016 von Microchip Technology übernommen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Elektronik. Anmeldungen liegen im Zeitraum 2000 bis 2021.
492 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Käck, Jürgen
Landsberg am Lech, Deutschland
814
Patente gesamt
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Fachgebiete
17
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB
NoneMünchen
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München