Verfahren zur Herstellung von Substraten mit Sige auf Isolator (sgoi) und Ge auf Isolator (goi)
EP1687848
Art A2
9. August 2006
Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1687848
- Aktenzeichen
- EP04791333
- Anmeldetag
- 28. Oktober 2004
- Veröffentlichung
- 9. August 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H01L31/0232H01L21/324H01L21/265H01L21/306H01L27/14H01L27/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- International Business Machines Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
IBM
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.
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Vertreten von
Ling, Christopher John
Winchester, Großbritannien
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