Verfahren zum Verarbeiten eines Substrats, Reinigungsverfahren nach chemisch-mechanischem Polieren, Verfahren und Programm zur Herstellung eines elektronischen Bauteils

EP1691409 Art A1 16. August 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1691409
Aktenzeichen: EP06002948
Anmeldetag: 14. Februar 2006
Veröffentlichung: 16. August 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/768H01L21/3105H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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