Substratbehandlungs-Einrichtungssteuerverfahren und Substratbehandlungseinrichtung

EP1693886 Art A1 23. August 2006

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1693886
Aktenzeichen: EP04820143
Anmeldetag: 30. November 2004
Veröffentlichung: 23. August 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/027G03F7/16H01L21/00H01L21/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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