Verfahren zur Erzeugung Nichtamorpher Ultradünner Halbleiterbauelemente unter Verwendung einer Opfer-Implantationsschicht

EP1695381 Art A1 30. August 2006

Anmelder: International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1695381
Aktenzeichen
EP03796637
Anmeldetag
4. Dezember 2003
Veröffentlichung
30. August 2006
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/8242H01L21/336H01L21/225H01L29/10
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
International Business Machines Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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