Prozesssteuerung-Methode für Verbesserte Wafer-Gleichmässigkeit unter Verwendung Integrierter oder Selbständiger Metrologie

EP1697986 Art B1 8. Juli 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1697986
Aktenzeichen
EP04814957
Anmeldetag
17. Dezember 2004
Veröffentlichung
8. Juli 2020
Erteilung
8. Juli 2020
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/66H01L21/67
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM RESEARCH CORPORATION
Land
🇺🇸 USA

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Vertreten von
Kontrus, Gerhard Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik Elektronik & Schaltungstechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik
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