Prozesssteuerung-Methode für Verbesserte Wafer-Gleichmässigkeit unter Verwendung Integrierter oder Selbständiger Metrologie
EP1697986
Art B1
8. Juli 2020
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1697986
- Aktenzeichen
- EP04814957
- Anmeldetag
- 17. Dezember 2004
- Veröffentlichung
- 8. Juli 2020
- Erteilung
- 8. Juli 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/66H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.726 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kontrus, Gerhard
Villach, Österreich
229
Patente gesamt
16
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Käck, Jürgen
NoneLandsberg am Lech