Verfahren zur Erzeugung einer Vertiefung in einer Oberfläche einer Schicht aus Fotoresist
EP1700166
Art B1
6. Januar 2010
Anmelder: HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P., Hewlett-Packard Development Company, L.P. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1700166
- Aktenzeichen
- EP04812505
- Anmeldetag
- 29. November 2004
- Veröffentlichung
- 6. Januar 2010
- Erteilung
- 6. Januar 2010
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20B01J2/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P.
Hewlett-Packard Development Company, L.P. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Hewlett-Packard
US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Palo Alto, Kalifornien. Aktiv in Computerhardware, Druckern, Speicherlösungen sowie Unternehmens-IT und Cloud-Infrastruktur.
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Fachgebiete
Vertreten von
Durville, Guillaume
Barcelona, Spanien
395
Patente gesamt
21
Fachgebiete
4
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Jackson, Richard Eric
NoneLondon