Lithografieobjektiv mit Auswechselvorrichtung für ein Optisches Element und Herstellungsverfahren mittels Dieses Lithografieobjektives
EP1700167
Art B1
20. August 2008
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1700167
- Aktenzeichen
- EP04820811
- Anmeldetag
- 30. November 2004
- Veröffentlichung
- 20. August 2008
- Erteilung
- 20. August 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B13/14G02B7/02G02B7/14G02B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Vertreten von
Lorenz, Werner
Heidenheim, Deutschland
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